Комплект дисків з покриттям SiC

Склад дисків з покриттям SiC

Semixlab SiC Coated Set Disc – це носій для пластин, розроблений для обладнання Aixtron MOCVD. Він складається переважно з двох наступних частин:

1. Матеріал підкладки: ізостатичний графіт високої чистоти

Характеристики матеріалу: надзвичайно висока теплопровідність (до 180 Вт/м·K), висока стійкість до високих температур, не схильний до деформації та розтріскування.

Переваги: ​​Забезпечує добру теплову однорідність та структурну міцність пластин, що є важливою основою для забезпечення стабільності процесу вирощування.

2. Поверхневе покриття: CVD-осадження високочистого SiC (карбіду кремнію)

Метод осадження: використовується плазмохімічне осадження (CVD) або термічний CVD-процес, а товщина покриття контролюється в межах 50–200 мкм.

Опис характеристики: Поверхневий шар щільний і без пор, з механічною міцністю за шкалою Мооса близькою до 9, а також надзвичайно стійкий до корозії та впливу високих температур.

Чому варто вибрати Semixlab?

Якщо ви шукаєте:

● Високопродуктивний комплект дисків з покриттям SiC для систем Aixtron.

● Рішення для перевізників, що підтримують виготовлення нестандартних розмірів, послуги з ремонту та роботу в умовах високої температури та корозії.

● Високоякісні компоненти, що покращують вихід MOCVD та подовжують цикли стабільності процесу.

Будь ласка, зв'яжіться з нами зараз, щоб отримати найактуальнішу цінову пропозицію та технічні характеристики. Ми пропонуємо послуги глобальної доставки та технічної підтримки, щоб допомогти вам швидко розгорнути вашу виробничу лінію.

Аналіз ключових фізичних властивостей

1. Висока стійкість до температури

Верхня межа робочої температури може сягати 1600°C+. Структура покриття не тріскається та не відшаровується через термічні навантаження та може витримувати тривалі цикли реакції MOCVD.

2. Теплопровідність та теплова однорідність

Поєднання підкладки та покриття підвищує ефективність теплопровідності та запобігає дефектам росту пластин, спричиненим нерівномірним нагріванням. Стабільність теплопровідності забезпечує рівномірний розподіл товщини та складу осадження, а також покращує вихід продукту.

3. Стійкість до хімічної корозії

Покриття може ефективно протистояти висококорозійним газам процесу MOCVD, таким як водень, аміак, TMGa та TMAl. Сам матеріал має дуже щільну структуру β-SiC, і майже не відбувається побічних реакцій з реакційним газом.

4. Контроль поверхневих частинок

Поверхня покриття має низьку шорсткість (Ra <0.5 мкм) і не легко адсорбує частинки або відшаровується. Зменшує забруднення процесу мікрочастинками, особливо підходить для процесів виробництва пластин великого розміру від 6 дюймів.

Сценарії застосування продукту та їх функції

1. Розроблено спеціально для структури планетарного реактора Aixtron

Застосовується до реакційних камер планетарних поворотних конструкцій, таких як AIX 200 та AIX 2800G4.

Структура диска точно розроблена для забезпечення теплової симетрії та балансу повітряного потоку пластини під час обертання.

2. Важлива роль у епітаксії складних напівпровідників

Застосовується для епітаксіального росту MOCVD різних сполук III-V груп, включаючи, але не обмежуючись:

● GaN/AlGaN: для світлодіодів, лазерів, силових пристроїв.

● AlN, InGaN: для ультрафіолетових світлодіодів та високочастотних пристроїв.

● Епітаксія GaAs/InP: для високошвидкісних електронних пристроїв та лазерних комунікаційних мікросхем.

Ланцюг галузі епітаксії напівпровідникових мікросхем:

Набір дисків Semixlab з покриттям SiC