Графітове кільце з покриттям TaC
Графітові кільця з покриттям TaC від Semixlab розроблені для забезпечення надзвичайної продуктивності у виробництві напівпровідників. Наші високочисті кільця з покриттям CVD з карбіду танталу (TaC) незамінні для процесів CVD, PVD та плазмового травлення, оскільки вони служать напрямними кільцями, фокусуючими кільцями та кільцями-лайнерами. Зменште забруднення частинками та підвищте вихід пластин завдяки нашим міцним та надійним компонентам.
Опис
Графітове кільце Semixlab з покриттям TaC є критично важливим компонентом, який використовується переважно в обладнанні для виробництва напівпровідників. Воно складається з високочистої графітової підкладки, ретельно покритої шаром карбіду танталу (TaC). Це вдосконалене покриття забезпечує чудову поверхню, яка захищає графіт під ним від агресивного хімічного середовища та високих температур.
Наші графітові кільця з покриттям TaC відіграють важливу роль у таких процесах, як хімічне осадження з парової фази (CVD), фізичне осадження з парової фази (PVD) та плазмове травлення. Вони служать захисним бар'єром, напрямним кільцем або ключовою структурною деталлю в реакційній камері, забезпечуючи цілісність та якість кінцевої напівпровідникової пластини.
Специфікації
| Фізичні властивості покриття з карбіду танталу (TaC) | |
| Щільність | 14.3 (г/см³) |
| Питома випромінювальна здатність | 0.3 |
| Коефіцієнт теплового розширення | 6.3*10-6/K |
| Твердість (HK) | 2000 HK |
| Опір | 1 × 10-5 Ом*см |
| Термічна стійкість | <2500 ℃ |
| Розмір графіту змінюється | -10~-20 мкм |
| Товщина покриття | Типове значення ≥20um (35um±10um) |
додатків
Застосування в напівпровідникових процесах
Міцні властивості наших графітових кілець з покриттям TaC для виробництва напівпровідників роблять їх незамінними в кількох ключових застосуваннях.
1. Хімічне осадження з парової фази (CVD)
У процесах CVD, де гази реагують за високих температур для нанесення тонких плівок на пластини, реакційна камера є дуже агресивним середовищем. Наші кільця з покриттям TaC, отриманим методом CVD, використовуються як токоприймаючі кільця, напрямні кільця та кільця-лайнери. Вони забезпечують винятковий захист від агресивних газів та хімічних речовин, запобігаючи забрудненню частинками та забезпечуючи рівномірну товщину плівки по всій пластині. Висока термічна стабільність TaC забезпечує стабільну роботу навіть за екстремальних температур.
2. Фізичне осадження з парової фази (PVD)
Для PVD-розпилення та електронно-променевого випаровування наші кільця слугують важливими компонентами у вакуумній камері. Вони діють як захисні або напрямні кільця, що захищають інші чутливі деталі від уламків, що утворюються внаслідок розпилення, та плазмового бомбардування. Надзвичайна твердість і щільність покриття TaC роблять його дуже стійким до ерозії частинок, що значно знижує ризик деградації компонентів та подальших дефектів пластин.
3. Плазмове травлення
Під час плазмового травлення використовується високореактивна плазма для вибіркового видалення матеріалу з пластини. Цей процес піддає компоненти
конкурентні переваги
Переваги графітових кілець Semixlab з покриттям TaC
1. Чудова довговічність
●Щільне покриття TaC, отримане методом CVD, набагато краще протистоїть плазмі, хімічному впливу та механічному зносу, ніж чистий графіт.
2. Висока чистота для отримання напівпровідникових продуктів
● Виготовлено з графіту з наднизьким вмістом домішок та високочистого покриття TaC для мінімізації іонного забруднення.
3. Точна обробка та контроль покриття
●Удосконалена обробка для досягнення високих допусків; рівномірна товщина покриття для стабільної продуктивності.
4. Налаштування та інженерна підтримка
● Варіанти різних діаметрів, профілів поперечного перерізу, товщини покриття та герметизуючих властивостей.
●Технічні консультації щодо проектів, що відповідають специфічним вимогам процесу.
5. Швидке прототипування та глобальні постачання
●Швидке виробництво зразків, глобальна логістика та надійні терміни виконання замовлень.
Наші Послуги

Магазин продуктів Semixlab


EN
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ





