EN 
EN
DA
NL
FI
FR
DE
IT
JA
KO
NO
PL
PT
RO
RU
ES
SV
TL
ID
SK
UK
VI
TH
TR
FA
BE
LA
UZ
Напівпровідникова кварцова перегородка потоку
Кварцовий перегородковий елемент Semixlab Semiconductor Flow Baffle – це високоточно спроектований компонент, призначений для регулювання та гомогенізації потоку газу всередині печей CVD, LPCVD, PECVD, дифузійних та окислювальних печей. Виготовлений з надвисокочистого плавленого кварцу (SiO₂, ≥99.99%), він забезпечує стабільну температуру та розподіл газу під час обробки пластин, ефективно мінімізуючи неоднорідність плівки, забруднення частинками та локальне надмірне осадження. Його висока оптична прозорість, виняткова термостійкість та відсутність забруднень роблять його незамінним компонентом у передовому обладнанні для напівпровідникової та епітаксії SiC/GaN.
Опис
Ⅰ. Характеристики матеріалу та поверхні
● Матеріал: Високочистий плавлений кварц (синтетичний або натуральний кварц, чистота ≥99.99%).
● Термостійкість: Стабільна продуктивність при постійній температурі до 1200°C.
● Оздоблення поверхні: Ультрагладкі, прецизійно відполіровані поверхні для запобігання адгезії частинок.
● Теплове розширення: Низький коефіцієнт розширення (5.5×10⁻⁷/°C) забезпечує стабільність розмірів.
● Хімічна стійкість: Інертний до агресивних газів, таких як HCl, NH₃ та SiH₄.
Кожна перегородка потоку проходить ретельну перевірку на якість поверхні, точність розмірів та контроль внутрішніх бульбашок, що забезпечує стабільну чистоту та надійність у кожній виробничій партії.
Ⅱ. Ключові функції в напівпровідникових процесах
Кварцова перегородка потоку служить компонентом для контролю потоку всередині високотемпературних камер для обробки напівпровідників. Її функція виходить далеко за рамки простого спрямування газів — вона відіграє багатофункціональну роль у стабілізації технологічного середовища, покращенні використання матеріалу та забезпеченні однорідності між пластинами.
1. Рівномірний розподіл потоку газу
У таких процесах, як LPCVD, PECVD та епітаксія, рівномірна подача газу є вирішальною для досягнення стабільного росту тонких плівок та розподілу легуючих домішок. Ретельно спроектована геометрія кварцової перегородки потоку, включаючи кутові канали потоку, відхиляючу кривизну та оптимізовану відстань, забезпечує рівномірний розподіл реакційних газів по поверхні пластини. Підтримуючи ламінарну картину потоку, перегородка потоку гарантує, що кожна пластина в партії зазнає однакових умов впливу газу, тим самим підвищуючи стабільність виходу та узгодженість пристрою.
2. Стабілізація теплового поля та баланс теплопередачі
Під час високотемпературних процесів, таких як термічне окислення або епітаксійний ріст Si, навіть незначні коливання розподілу температури можуть призвести до кристалічних дефектів, дислокацій або плівкових напружень.
Кварцова перегородка потоку функціонує як тепловий сповільнювач:
● Згладжує градієнти температури між центром і краєм вафельного човника
● Мінімізує дисбаланс променистого тепла всередині печі
● Зменшує теплові шоки під час циклів підвищення та зниження температури
3. Придушення забруднення та чистота процесу
У виробництві напівпровідників контроль забруднення є надзвичайно важливим. Забруднення металами або твердими частинками може суттєво знизити продуктивність пристрою. Кварцова перегородка потоку, виготовлена з надвисокочистого синтетичного плавленого кремнезему (SiO₂ ≥ 99.99%), не вводить іони металів або залишки вуглецю в технологічну камеру. Її гладка, непориста поверхня запобігає накопиченню побічних продуктів реакції та випаданню частинок. Це забезпечує стабільність рівня чистої кімнати для критично важливих процесів, таких як утворення оксиду затвора, дифузійне легування та осадження діелектриків методом хіміко-хімічного осадження (ХОГП).
Кварцова перегородка потоку Semixlab — це не просто пасивний компонент, а й критично важливий фактор, що забезпечує стабільність процесу, однорідність газу та оптимізацію виходу. Завдяки вдосконаленій конструкції динаміки потоку, тепловому балансуванню та надчистому складу матеріалу, вона гарантує, що кожна пластина отримує точно контрольоване технологічне середовище, що є важливим для виготовлення напівпровідникових приладів наступного покоління.
Наші Послуги
Магазин продуктів Semixlab
