Кварцова дифузійна труба високої чистоти

Кварцова дифузійна піч високої чистоти спеціально розроблена для високотемпературного дифузійного процесу у виробництві напівпровідникових пластин. Вона виготовлена ​​з надвисокочистого синтетичного кварцового піску (SiO₂чистота ≥99.999%). Відповідає суворим вимогам щодо чистоти, термічної стабільності та хімічної інертності, що застосовуються в передових процесах, менше 7 нм. Продукти, отримані за допомогою процесу дугового плавлення та технології прецизійної обробки, забезпечують стабільність структури в середовищі високої температури 1200 ℃, широко використовуються в легуванні фосфором/бором, оксидному зростанні та інших ключових процесах.

Основні матеріали та характеристики

Матеріал надвисокої чистоти

Чистота SiO₂: ≥99.999% (клас 5N), загальний вміст домішок ≤2 ppm (відповідно до стандарту SEMI F63).

Контроль ключових домішок: Li+Na+K≤0.5 ppm, Fe≤0.1 ppm, Al≤0.3 ppm, B≤0.05 ppm (уникайте впливу легуючих речовин).

Вміст гідроксильних груп: ≤1 ppm (після обробки дегідроксилюванням для запобігання дефектам пластин, спричиненим виділенням водню за високої температури).

Оптимізація теплових характеристик

Коефіцієнт теплового розширення: 5.5×10^-7K^-1(20-1000 °C), уникаючи деформаційних розтріскування, спричинених різкими перепадами температури.

Температура розм'якшення: 1680℃, тривала робоча температура ≤1250℃ (підтримує швидкий підйом та процес охолодження).

Термостійкість: витримує цикл гартування при кімнатній температурі 1200℃ → ≥200 разів (стандартна перевірка ASTM C338).

Хімічна інертність та чистота

Корозійна стійкість: стійкий до HF, HCl, HNO₃ та інших сильних кислот (швидкість втрати ваги ≤0.005 мг/см²·год).

Чистота поверхні: Ra ≤ 0.1 мкм (полірування CMP), тверді частинки ≤ 5/м2 (@ 0.1 мкм, відповідно до ISO Клас 1).

Контроль забруднення металами: поверхневий залишок металу ≤0.1 ppb (виявлення ICP-MS).

Швидкий опис:

1. Інші назви: кварцова реакційна трубка, трубка високотемпературної печі.

2. Застосування: Процес дифузії пластин.

3. Параметри ядра: чистота ≥99.995%, термостійкість 1600℃, внутрішній діаметр 20-300 мм.

Високотемпературне дифузійне легування.

Дифузія твердотільного джерела фосфору/бору (1000-1200℃).

Процес швидкого термічного відпалу (RTA) (швидкість підйому/охолодження ≥100℃/с).

Надвисока чистота та стійкість до кристалізації подовжують термін служби труби печі.

Підтримка складного проектування структури, адаптація до різноманітних вимог процесу.

Суворий контроль допуску розмірів (±0.5 мм).